X-ray荧光-XRF Hitachi XRF-卓越的数据库和指定条件搜寻功能
SPC 统计制程管制(Statistical Process Control)
统计制程是利用实际资料,运用统计的手法,用大数据的角度来帮助品管找出(归纳)产品的质量问题出在哪里,使用得当,而且还可以回溯和追踪产品的质量轨迹,进而控管供货商入料在一定的正常水平。因此,可以透过监控并维持供货商产品在一定的质量程度以上的话,则可以达到降低风险的功效,同时监控并维持供货商产品的在一定的质量程度以上。
▲图一 SPC统计分析方法说明
SPC统计制程管制意即利用统计分析的方法,对生产过程做实时的监控,使制程稳定和降低变异来改善制程能力
「若是未具备相应功能,则多数业者会发生因年代久远造成的档案遗失,或是常因供货商料种发生问题而需展开调查时搜寻过去档案不易而使得单位权益受损。」
如下图,业界常在测试『同一批号物料』时,无法得知同一供货商的进料质量和稳定性,有可能此物料逐月浓度递增,有可能此物料每月进料浓度参差不齐,浓度变异太大,对于质量和后续加工程序,皆有一定的浅在风险。对于一级大厂客户,优先拥有一套良好的追溯系统,不但可有效预防进料的变化或异物添加,更有助于防范各种问题。这样的统计技术,目前已整合于新的Hitachi XRF系统中。
如下图,业界常在测试『同一批号物料』时,无法得知同一供货商的进料质量和稳定性,有可能此物料逐月浓度递增,有可能此物料每月进料浓度参差不齐,浓度变异太大,对于质量和后续加工程序,皆有一定的浅在风险。对于一级大厂客户,优先拥有一套良好的追溯系统,不但可有效预防进料的变化或异物添加,更有助于防范各种问题。这样的统计技术,目前已整合于新的Hitachi XRF系统中。
▲图二 各种分析经验案例中所经常遇到的状况
作为HITACHI新一代的XRF,率先业界并入数据库优化搜寻系统,并可以利用同一系统,进行类似SPC统计制程管制(Statistical Process Control)质量实时追溯分析,随时监控出货(OQC)或进料(IQC) 的全面性管理。
HITACHI新型XRF已把分析阶段和监控阶段整合为一,在同一操控系统下,用户或管理者可在每笔分析结果自动归纳,并利用历史分布点的情形,判断料种的趋势浓度是否有出现异常值(如下图),一旦发现失控立即做改善,并且可针对有问题测试结果,做各种条件组合筛选,进行历史原因的搜寻和问题解决。
▲图三 HITACHI XRF供货商原物料有害物质监控质量系统
透过HITACHI EA XRF趋势管理方法监控供货商物料,可以明显看见每批物料于品保单位入料把关时所含的物质元素是否稳定,可以透过各种条件的设定填写,为未来及时搜寻数据时做好妥善的纪录。
▲图四 HITACHI XRF分析前可自由设定不同条件参数
透过HITACHI EA XRF趋势管理方法监控供货商物料,可以明显看见每批物料于品保单位入料把关时所含的物质元素是否稳定,可以透过各种条件的设定填写,为未来及时搜寻数据时做好妥善的纪录。
▲图五 HITACHI XRF分析资料可自由依照不同条件搜寻
其他相關訊息
-
23 Sep.2024
X-ray荧光-XRF Hitachi XRF-卓越的数据库和指定条件搜寻功能
-
15 Apr.2024
X-rite-分光光度计 X-rite自动化 在线型实时监控颜色、色差、光泽
-
27 Nov.2023
X-ray荧光-XRF Evident贵金属检验仪应用分享