X ray影像-X-ray 3D X-ray CT 掌握半导体制程品质的关键利器
3D X-ray CT:掌握半导体制程品质的关键利器
面对愈趋精细且复杂的半导体封装结构,传统2D X-ray已难以应付内部瑕疵的判读需求。从2.5D、3D封装到TSV穿孔结构,每一项创新都对品质检测提出更高挑战。传统2D X-ray已难以应付内部结构的瑕疵判读,此时,3D X-ray CT 成为企业追求高良率与高可靠度的重要解方。
为什么选择3D CT?
相较于传统2D X-ray,3D CT 能够提供更深入的观测与解析能力,具体优势包括:
在封装与组装过程中,常见的孔洞(Void)、错位(Misalignment)、焊点裂缝(Cracks)、TSV断裂等缺陷,往往难以透过表面观察或单一角度X-ray影像辨识。
- 重建封装内部三维结构
- 清楚辨识不同深度层的微小缺陷
- 提供制程参数优化依据
- 减少因判读错误造成的良率损失
真实应用场景
制程阶段 | CT 应用项目 |
---|---|
晶圆凸块(Bumping) | Bump 结构分析、高度差侦测 |
Die Attach / Underfill(晶粒贴合 / 底部填充) | 湿润性不良、Underfill 气泡侦测 |
打线封装 | 焊点内部裂缝与脱落分析 |
多层封装(3D IC) | TSV 垂直通孔穿透品质分析 |

▲图一 2DX-ray多角度检测





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